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2021版重点新材料首批次应用示范指导目录公布,泰特尔又一产品入围

日期:2022年01月05日浏览量:
2021年12月31日,工业和信息化部发布《重点新材料首批次应用示范指导目录》(2021年版), 并于2022年1月1日起施行。

该指导目录包括先进基础材料、关键战略材料、前沿新材料等三大类共304种。泰特尔新材料又一产品入选目录的第112项目---ArF光刻胶用脂环族环氧树脂。

光刻胶是一种对光敏感的混合液体,是微电子技术中微细图形加工的关键材料,其组成部分包括:光引发剂、光刻胶树脂、单体、溶剂和其他助剂。其按照技术难度、工艺等可以分为g线、i线、KrF、ArF、EUV。

中国光刻胶市场本土供应量增速高于全球平均水平,发展空间巨大。目前,国内光刻胶的自给率大约在10%左右,并且能够生产的光刻胶,一般是g线、i线、KrF光刻胶,对于ArF、EUV光刻胶,大部分是从日本或美国进口。

随着中国产业结构升级,国产化需求不断扩大,为满足客户应用需求,泰特尔新材料积极布局光刻胶下游应用市场,尤其在PCB板,LCD,LED及半导体等。公司产品不断推陈出新,加速了中国高端电子材料国产化,解决卡脖子问题,更好的为行业赋能,同频中国高速前进的步伐。